製品
特性と用途 |
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該當製品は、組織構(gòu)造を最適化されたチタン合金であり、使用環(huán)境の中に他のガスが存在する場合にも、活性化せずに、室溫から400℃まで環(huán)境の中から水素ガスを選択的に直接吸収し、金屬の內(nèi)部に迅速拡散させることができる。 水素分圧が低く、水が発生せず、有機ガスが放出されず、粒子が脫落せず、組み立てが容易など特徴があります。水素に敏感な様々な封止デバイス、特にガリウムヒ素マイクロエレクトロニクス、光モジュールに広く適用できます。 | |||||
特徴及び関連データ |
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●構(gòu)造: |
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薄片狀の金屬であり、サイズの形はユーザーの必要に従ってカスタマイズすることができる、また各種カバープレートやセラミックケースの內(nèi)部に薄膜狀コーティングすることもできる。 | |||||
●吸気能力:53432
注:ゲッターフィルムの水素吸収容量は、厚さに関連しています |
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推奨する活性化條件 |
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活性化する必要がありません | |||||
注意事項 |
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表面の膜層に傷が付くのを避けるために組み立てます。 製品の水素吸収速度は溫度とともに増加しますが、最大稼働溫度は400℃を超えてはなりません。稼働溫度が350℃を超えると、水素吸収容量が大幅に低下します。水素吸収量が安全な水素吸収容量を超えると、外形損害恐れがあります。 |
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